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华为公开芯片相关专利,可提升芯片散热能力

手机互联 2021-07-13 10:58:28 转载来源: IT之家

今日,华为技术有限公司公开“芯片、芯片的制造方法和电子设备”专利,公开号为CN113113367A。企查查专利摘要显示,本申请属于芯片散热技术领域,采用本申请,通过在相邻两个硅片之间安装导热片,可以将硅片上的热量传导至导热片上,降低硅片上的温度,提升芯片的散热能力,进而可以避免大量的热量在硅片上聚积而出现芯片烧坏的情况

今日,华为技术有限公司公开芯片、芯片的制造方法和电子设备”专利,公开号为CN113113367A。

企查查专利摘要显示,本申请属于芯片散热技术领域,采用本申请,通过在相邻两个硅片之间安装导热片,可以将硅片上的热量传导至导热片上,降低硅片上的温度,提升芯片的散热能力,进而可以避免大量的热量在硅片上聚积而出现芯片烧坏的情况。

该专利所述芯片包括壳体、多个硅片和多个导热片,其中:所述多个硅片和所述多个导热片堆叠安装在所述壳体中;相邻两个所述硅片之间安装有所述导热片,所述导热片的边缘伸出于相邻两个所述硅片之间的间隙。

标签: 芯片 华为 公开 相关 专利 提升 散热 能力


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